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Gigaphoton将在SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会发布技术解决方案

公司将在半导体光刻技术盛会上发表论文 

2023-02-17 18:51
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日本小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社(总部:栃木县小山市,董事总经理兼首席执行官:Katsumi Uranaka)将参加于太平洋标准时间2023年2月26日(星期日)至3月2日(星期四)在加州圣何塞举行的SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023大会。 

Gigaphoton将介绍助力提高产能的前沿技术,以及基于DUV光源技术可持续性解决方案。此外,Gigaphoton还将介绍EUV光源的研发进展。 

* 如果您希望在您的材料中引用这些论文,请联系我们。 

口头演讲:
1) 通过领先的浸入式光源同时改善边缘放置误差(EPE)和可用性 [论文编号:12494-44]
2) 面向半导体制造的等离子体动力学和LPP-EUV光源的前景 [论文编号: 12494-45]
 
论文:
3) LPP-EUV光源关键部件的开发进展 [论文编号:12494-51]
4) 面向工程维护决策的基于机器学习的准分子激光性能模拟器的开发 [论文编号: 12496-101]
5) 利用面向ArF浸入式光刻的最新光源GT66A,实现一流可用性,为可持续发展做出贡献 [论文编号: 12494-60]
 

关于GIGAPHOTON 

GIGAPHOTON公司成立于2000年,作为一家半导体光刻光源的供应商,自成立以来一直为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。GIGAPHOTON时刻以客户为中心,从产品研发到生产、销售及维护,为用户提供业界顶级水准的支持。如需了解更多信息,请访问https://gigaphoton.com/

原文版本可在businesswire.com上查阅:https://www.businesswire.com/news/home/20230216005001/en/

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。 

联系方式:

媒体联系人: 
GIGAPHOTON Inc.  
企业规划部  
Kenji Ohishi  
电话:+81-285-37-6931  
电邮:web_info@gigaphoton.com

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